供貨周期 | 一個月 | 規格 | 100ML,250ML,500ML,1L |
---|---|---|---|
應用領域 | 電子 | 主要用途 | 出色的抗干蝕刻性,降低涂層應力,提高附著力 |
特征
•提高附著力
•降低涂層應力
•高縱橫比成像
•垂直側壁
•單層涂膜厚度大于100mm
•出色的抗干蝕刻性
SU-8 3000抗蝕劑經過專門設計,可與MicroChem的SU-8顯影劑一起用于浸漬,噴涂或噴漿工藝。 也可以使用其他基于溶劑的顯影劑,例如乳酸乙酯和雙丙酮醇。 對于高縱橫比和/或厚膜結構,也建議強烈攪拌。 表6中給出了浸入過程的建議顯影時間。這些顯影時間是近似的,因為實際溶解速度會隨著攪拌而變化很大。
SU-8 3000具有良好的機械性能。 但是,對于要保留成像的抗蝕劑作為終設備一部分的應用,可以在加熱板上或對流烤箱中在150-200°C之間將抗蝕劑進行坡道/分步硬烘烤,以進一步使材料交聯。 烘烤時間根據烘烤過程的類型和膜厚的不同而不同。