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JCP500 高品質(zhì)多靶磁控濺射鍍膜設(shè)備
- 公司名稱 北京泰科諾科技有限公司
- 品牌
- 型號(hào) JCP500
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2019/8/8 9:51:47
- 訪問(wèn)次數(shù) 577
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蒸發(fā)鍍膜設(shè)備,磁控鍍膜設(shè)備,電子束鍍膜設(shè)備,熱絲CVD設(shè)備,高真空退火爐,裝飾鍍膜設(shè)備
產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子,交通,冶金,航天,汽車(chē) |
1、產(chǎn)品特點(diǎn)/用途:
?多靶磁控濺射鍍膜設(shè)備可濺射/蒸發(fā)兩用;占地面積小,價(jià)格便宜,性能穩(wěn)定,使用維護(hù)成本低;
?多靶磁控濺射鍍膜設(shè)備可用于制備單層及多層金屬膜、介質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、磁性膜、傳感器膜及耐熱合金膜、硬質(zhì)膜、耐腐蝕膜等;
?鍍膜示例:銀、鋁、銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、ITO、二氧化硅等;
?單靶濺射、多靶依次濺射、共同濺射等功能。
2、技術(shù)參數(shù)
型號(hào) | JCP500 |
真空腔室結(jié)構(gòu) | 立式前開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu),后置抽氣系統(tǒng) |
真空腔室尺寸 | Φ500×H420mm |
加熱溫度 | 室溫~500℃ |
濺射方式 | 上下濺射可選 |
旋轉(zhuǎn)基片臺(tái) | Φ150mm |
膜厚不均勻性 | Φ100mm范圍內(nèi)≤±5.0% |
濺射靶/蒸發(fā)電極 | Φ3英寸磁控靶3支,兼容DC/MF/RF濺射 |
工藝氣體 | 2~3路氣體流量控制 |
控制方式 | PLC+觸摸屏人機(jī)界面半自動(dòng)控制系統(tǒng) |
占地面積 | (主機(jī))L1900×W800×H1900mm |
總功率 | ≥10KW |