Neocera Pioneer 系列 脈沖激光沉積系統(tǒng)PLD— 基于經(jīng)驗(yàn)的創(chuàng)新設(shè)計
Neocera 利用PLD 開展了深入廣泛的研究，建立了獲得超薄薄膜質(zhì)量的臨界參數(shù)，特別適用于沉積復(fù)雜氧化物薄膜。
這些思考已經(jīng)應(yīng)用于Pioneer 系統(tǒng)的設(shè)計之中。
• 很多復(fù)雜氧化物薄膜在相對高的氧壓（>100 Torr）下冷卻可獲得更高的質(zhì)量。所有Pioneer系統(tǒng)都具備此功能（壓力范圍可從額定初始壓強(qiáng)到大氣壓）。這也有益于納米粒子的生成。
• Pioneer PLD 系統(tǒng)的激光束入射角為45°，保持了激光密度在靶材上的大均勻性，同時避免使用復(fù)雜而昂貴的光學(xué)部件。更大的入射角能夠拉長靶材上的激光斑點(diǎn)，導(dǎo)致密度均勻性的損失。
• 為了避免使用昂貴的與氧氣兼容的真空泵，消除油的回流對薄膜質(zhì)量的影響，所有Pioneer系統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)配置都采用無油泵系統(tǒng)。
• 我們的研究表明靶和基片的距離是獲得超薄薄膜質(zhì)量的關(guān)鍵參數(shù)。Pioneer 系統(tǒng)可以控制靶材和基片的距離，以達(dá)到更好的沉積條件。

脈沖激光沉積（Pulsed Laser Deposition）是一種用途廣泛的薄膜沉積技術(shù)。脈沖激光快速蒸發(fā)靶材，生成與靶材組成相同的薄膜。PLD 的*之處是能量源（脈沖激光）位于真空室的外面。這樣，在材料合成時，工作壓力的動態(tài)范圍很寬，達(dá)到10-10 Torr ~ 100 Torr。通過控制鍍膜壓力和溫度，可以合成一系列具有*功能的納米結(jié)構(gòu)和納米顆粒。另外，PLD 是一種“ 數(shù)字” 技術(shù)，在納米尺度上進(jìn)行工藝控制（?/pulse）。
• Neocera 在PLD 設(shè)備與工藝開發(fā)方面具有不可超越的經(jīng)驗(yàn)
• Pioneer 系列PLD 系統(tǒng)是研發(fā)領(lǐng)域?yàn)閺V泛使用的商業(yè)化系統(tǒng)
• Neocera 不僅為客戶提供基本的PLD 系統(tǒng)，也提供完整的PLD 實(shí)驗(yàn)室交鑰匙方案

脈沖激光沉積系統(tǒng)PLD技術(shù)指標(biāo)：

• 作為完整PLD 實(shí)驗(yàn)室解決方案供應(yīng)商，我們還可提供：248nm 激光器（準(zhǔn)分子、固體等），激光氣體柜，激光器和光學(xué)器件，以及光學(xué)器件等。
• 帶* 的項(xiàng)目均可客戶化。