光刻機,鍍膜機,磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發鍍膜儀,開爾文探針系統(功函數測量),氣溶膠設備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強氣相沉積系統(PECVD),原子層沉積系統(ALD),快速退火爐,氣溶膠發生器,稀釋器,濾料測試系統
產地類別 | 進口 |
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U-SMPS 掃描電遷移率粒徑譜儀-德國氣溶膠設備
Palas® U-SMPS(Uuniversal Scanning Mobility Particle Sizer掃描電遷移率粒徑譜儀)用于亞微米顆粒粒徑分布研究。顆粒大小和濃度的測量在健康領域廣為研究,如吸入治療、工作環境評價,同時在環境監測領域也廣為關注。
Palas® U-SMPS由一個DMA靜電遷移率分析儀和CPC凝聚核粒子計數器,DMA靜電遷移率分析儀又稱為DEMC差分粒子電遷移器。氣溶膠顆粒根據他們在電場中的性質不同而被分離,然后被CPC凝聚核粒子計數器計數或Palas® Charme®氣溶膠靜電計檢測,軟件將以上數據反演為氣溶膠粒徑和濃度分布圖。
用戶可以自行設置粒徑范圍,最快30秒可以掃描一次。用戶也可以設置電壓,獲得更好的分離效果。
U-SMPS 掃描電遷移率粒徑譜儀-德國氣溶膠設備
系統觸摸屏圖形化的用戶界面,測量值線性和對數顯示,內存數據管理。數據評價軟件,可用于數據進一步處理。系統為嵌入式操作系統,也可外接電腦進行操作。
特點:
氣溶膠粒徑分布, 3 nm to 1.2 μm
高分辨率: 64 size channels/decade
測量濃度可達 to 108 particles/cm3
圖形化顯示測量值
7”觸摸屏,引導式操作
內置數據記錄功能
可遠程操作
應用:
過濾材料測試
氣溶膠研究
大氣環境研究
吸入和暴露研究
室內和工作環境測量
技術參數
DEMC:
DEMC 2000 dp = 5 nm – 1,200 nm
通道數: 1 – 64
濃度范圍: up to 108 particles/cm3
樣氣流速 /鞘氣流速: 0 – 4 l/min / 0 – 8 l/min
嵌入式操作系統: 觸摸屏 800 x 480 pixels
處理器 1.6 GHz Intel AtomTM
內存:2 GB
接口: USB, WLAN, Ethernet, RS‐232/485
供電: 115/230 V; 50/60 Hz
控制單元尺寸: 33 x 38 x 24 cm (H x W x D)
柱體尺寸: 15 x 57 cm (? at base x H)
控制單元重量: 12.9 kg
柱體重量: 9.3 kg
UF-CPC
顆粒粒徑范圍: dp = 5 nm – 10,000 nm
濃度范圍:UF‐CPC 100 CNmax ≤ 50,000 P/cm3 (single counting)
CNmax < 107 P/cm3 (nephelometric mode)
UF‐CPC 200 CNmax ≤ 1,000,000 P/cm3 (single counting)
CNmax < 107 P/cm3 (nephelometric mode)
濃度精度: 5% (single counting),
10% (photometric mode)
工作流體: Butanol, isopropanol, water 或其他可選
氣溶膠流速: Adjustable 0.30 to 0.60 L/min
數字信號:detection: 20 MHz Processor
256 Raw data channels
光源:LED 壽命長 穩定性高
尺寸(HxWxD): 33 x 38 x 24 cm (13 x 15 x 9.5 in)
重量: 10 kg (22 lbs)
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