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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>硅片制備/晶體生長設備>單晶爐>HKZ SciDre 高溫高壓光學浮區爐

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HKZ SciDre 高溫高壓光學浮區爐

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  • 我們是誰

    美國Quantum Design公司是科學儀器制造商,其研發生產的系列磁學測量系統及綜合物性測量系統已成為業內進的測量平臺,廣泛分布于全球材料、物理、化學、納米等研究域的科研實驗室。Quantum量子科學儀器貿易(北京)有限公司(暨Quantum Design中國子公司) 成立于2004年,是美國Quantum Design公司設立的諸多子公司之,在全權負責美國Quantum Design公司本部產品在中國的銷售及售后技術支持的同時,還致力于和范圍內物理、化學、生物域的科學儀器制造商進行密切合作,幫助中國市場引進更多全球范圍內的質設備和技術,助力中國科學家的項目研究和發展。

  • 我們的理念

    Quantum Design中國的長期目標是成為中國與進行進技術、進儀器交流的重要橋頭堡。助力中國科技發展的十幾年中,Quantum Design中國時刻保持著積進取、不忘初心、精益求精的態度,為中國科學家提供更質的科學和技術支持。隨著中國科學在舞臺變得愈加舉足輕重,Quantum Design中國將繼續秉承“For Scientist, By Scientist”的理念,助力中國科技蓬勃發展,助力中國科技在騰飛!

  • 我們的團隊

    Quantum Design中國擁有支具備強大技術背景、職業化工作作風的團隊,并致力于培養并引進更多博士業技術人才。目前公司業務團隊高學歷業碩博人才已占比超過70%以上,高水平人才的不斷加入和日益密切的團隊配合幫助QD中國實現連續幾年銷售業績的持續增長

  • 我們的服務


  • Quantum Design中國擁有完善的本地化售前、售中和售后服務體系。國內本地設有價值超過50萬美元的備件庫,用于加速售后服務響應速度;同時設有超過300萬美元的樣機實驗室,支持客戶對設備進行進步體驗和深度了解。 “不僅提供超的產品,還提供超的售后服務”這將是Quantum Design中國區別于其他科研儀器供應商的重要征,也正成為越來越多科學工作者選擇Quantum Design中國的重要原因。




PPMS,MPMS,低溫磁學,表面成像,樣品制備,生命科學儀器

SciDre 高溫高壓光學浮區法單晶爐介紹:

SciDre 高溫高壓光學浮區爐



德國SciDre公司推出的能夠提供2200–3000℃以上的生長溫度,晶體生長腔壓力可達300bar,甚至10-5mbar的高真空。適用于生長各種超導材料單晶,介電和磁性材料單晶,氧化物及金屬間化合物單晶等。


應用域


適用于生長各種超導材料單晶,介電和磁性材料單晶,氧化物及金屬間化合物單晶等。





SciDre 高溫高壓光學浮區爐

耐高溫、耐高壓、高真空、

高透光率、拆裝簡便的樣品腔


SciDre 高溫高壓光學浮區爐

由德國弗勞恩霍夫應用光

和精密工程研究所化設計的高反射率鏡面,

鏡體位置可由高精度步進馬達控制調節


SciDre 高溫高壓光學浮區爐

光闌式光強控制器

更方便地調節熔區溫度,延長燈泡壽命


SciDre 高溫高壓光學浮區爐

仿真化觸屏控制軟件

界面友好,操作簡單


SciDre 高溫高壓光學浮區爐

熔區測溫選件測溫技術

可實時監測加熱區溫度


SciDre 高溫高壓光學浮區爐

多路立氣路控制選件

可控制N2、O2、Ar、空氣等的流量和壓力,

并可對氣體進行比例混合與熔區進行反應


SciDre 高溫高壓光學浮區爐

氣體除雜選件

可使高壓氬氣中的氧含量達到10-12ppm


SciDre 高溫高壓光學浮區爐

退火選件

可對離開熔區的單晶棒提供

高達1100℃退火溫度和高壓氧環境


SciDre 高溫高壓光學浮區法單晶爐

●  采用垂直式光路設計

●  采用高照度短弧氙燈,多種功率規格可選

●  熔區溫度:>3000℃

●  熔區壓力:10bar/50bar/100bar/150bar/300bar等多種規格可選

●  氧氣/氬氣/氮氣/空氣/混合氣等多種氣路可選

●  采用光柵控制技術,加熱功率從0-100% 連續可調

●  樣品腔可實現低至10-5mbar真空環境

●  豐富的可升選件


SciDre高溫高壓光學浮區法單晶爐技術參數

熔區溫度:高達2000 - 3000℃以上

熔區壓力:高至10、50、100、150、300 bar可選

熔區真空:1*10-2 mbar或 1*10-5 mbar可選

熔區氣氛:Ar、O2、N2等可選

氣體流量:0.25 – 1 L/min流量可控

氙燈功率:3kW至15kW可選

料棒臺尺寸:6.8mm或9.8mm可選

拉伸速率:0.1-50mm/h

調節速率:0.6 mm/s

拉伸尺寸:130mm,150mm,195mm可選

旋轉速率:0-70rpm

用電功率:400V三相 63A 50Hz

主機尺寸:330cm*163cm*92cm (不同規格略有差異)


發表文章

SciDre 高溫高壓光學浮區爐SciDre 高溫高壓光學浮區爐SciDre 高溫高壓光學浮區爐


用戶單位

中國科學院物理研究所

中國科學院固體物理研究所

北京師范大學

中山大學

南昌大學

上海大學







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