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化工儀器網>產品展廳>光學儀器及設備>光學顯微鏡>常規顯微鏡> USPM-RUⅢ鏡片反射率測定儀

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USPM-RUⅢ鏡片反射率測定儀

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西努光學創建于2003 年,主營工業顯微鏡及制樣設備、鏡片測定設備,高速攝像系統、工業內窺鏡、機器視覺等工業及科研應用的檢測設備及系統集成。
西努光學秉承“以光學為核心,為客戶提供解決方案”的經驗思路,經過16年的努力,成為眾多企業、高校科研單位提供各種專業化的光學系統解決方案。并于2012 年導入SAP 管理系統,通過系統資源整合,為客戶提供更優質、快捷的專業化服務。
2016 年,我們積極引進檢測設備的同時導入制樣等配套設備以豐富我們實驗室平臺,以更好的為客戶提供現場體驗,從微米到納米滿足客戶從制樣到結果分析的一站式體驗服務。



奧林巴斯顯微鏡,奧林巴斯工業內窺鏡,iX高速攝像機,標樂金相制樣設備,威爾遜硬度計,navitar鏡頭,日立掃描電鏡,加拿大WDI光學設備

產地類別 進口 應用領域 電子

USPM-RUⅢ鏡片反射率測定儀的特點:
1、消除背面反射光
采用特殊光學系,消除背面反射光。不必進行背面的防反射處理,可正確測定表面的反射率。

2、可測定微小領域的反射率
用對物鏡對焦于小區域(φ60μm),可測定鏡片曲面以及鍍膜層斑點。

3、測定時間短
使用Flat Field Grating(平面光柵)和線傳感器的高速分光測定,可迅速實現再現性很高的測定。

4、XY色度圖、L*a*b測定可能
以分光測定法為基準,從分光反射率情況可測定物體顏色。

5、可測定的Hard Coat(高強度鍍膜)膜厚
用于涉光分光法,可以不接觸、不破壞地測定被測物的膜厚(單層膜)。

USPM-RUⅢ鏡片反射率測定儀主要用途:

1、各種透鏡(眼鏡透鏡、光讀取透鏡等)

2、反射鏡、棱鏡以及其他鍍膜部品等的分光反射率、膜厚測定(單層膜)

規格
測定波長 380 nm~780 nm
測定方法 與參照樣本的比較測定
被檢物N.A. 0.12(使用10×物鏡時) 
0.24(使用20×物鏡時) 
* 與物鏡的N.A.不同
被檢物W.D. 10.1 mm(使用10×物鏡時) 
3.1 mm(使用20×物鏡時)
被檢物的曲率半徑 -1R ~-∞、+1R~∞
被檢物的測定范圍 約ø60 μm(使用10×物鏡時) 
約ø30 μm(使用20×物鏡時)
測定再現性(2σ) ±0.1%(380 nm~410 nm測定時) 
±0.01%(410 nm~700 nm測定時)
顯示分辨率 1 nm
測定時間 數秒~十幾秒(因取樣時間而異)
光源規格 鹵素燈 12 V 100 W
載物臺Z方向驅動范圍 85mm
PC接口 USB方式
裝置重量 機身:約20 kg(PC、打印機除外) 
光源用電源:約3 kg 
控制器盒:約8 kg
裝置尺寸 機身: 
300(W)×550(D)×570(H) mm 
光源用電源: 
150(W)×250(D)×140(H) mm 
控制器盒: 
220(W)×250(D)×140(H) mm
電源規格 光源用電源: 
100 V(2.8 A)/220 V AC 
控制器盒: 
100V(0.2A)/220V AC
使用環境 水平且無振動的地方 
溫度: 23±5 °C 
濕度: 60%以下、無結露

本裝置不保證溯源體系中的精度。 
可以特別訂做測定波長440 nm~840 nm規格。



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